1月8日，昭和電工株式會社宣布，為了強化電子材料用高純度氣體事業，決定在上海的生產基地-上海昭和電子化學材料有限公司旁邊取得第二工廠建設用地，建設高純度一氧化二氮和高純度八氟環丁烷的生產設施，以及高壓氣體危險品倉庫。第二工廠擬于2021年下半年投產。
第二工廠計劃面積約10,000平方米，計劃高純度一氧化二氮年生產能力1,000噸，計劃高純度八氟環丁烷年生產能力600噸。
高純度一氧化二氮主要是半導體及特氣網顯示屏制造時的氧化膜的氧來源的特種氣體，高純度八氟環丁烷主要是這種氧化膜的微細加工(蝕刻)時的特種氣體。由于第5代移動通信(5G)等信息通信領域的發展，以及中國政府的產業培育政策，預計今后中國的半導體及顯示屏市場(有機EL電視機等)將會擴大。
目前，昭和電工在川崎事業所和韓國基地生產高純度一氧化二氮，并在川崎事業所和上海基地生產高純度八氟環丁烷。為了提高對日益增長市場的穩定供應能力，昭和電工正致力于進一步推進“地產地銷”的政策。同時，在中國逐年加強對化學品的監管的形勢下，在上海建設并完善本公司擁有的高壓氣體危險品倉庫，對增強供應鏈、提高競爭力將大有幫助。
另外，由于預計臺灣地區的半導體市場同樣也會擴大，將新建年產150噸高純度八氟環丁烷的生產設施(計劃2020年春投產)。本次在上海和臺灣的投資總額約為30億日元。
文章來源：中化新
